GB/T 41153-2021
碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
GBT41153-2021, GB41153-2021
GB/T 41153-2021 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 41153-2021
- 别名
- GBT41153-2021
GB41153-2021 - 发布
- 2021年
- 发布单位
- 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
- 当前最新
- GB/T 41153-2021
- 引用标准
- GB/T 14264 GB/T 22461 GB/T 32267
- 本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。 本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析,测定范围为硼含量不小于5×1013 cm-3、铝含量不小于5×1013cm-3、氮含量不小于5×1015cm-3,元素浓度(原子个数百分比)不大于1%。 注1:碳化硅单晶中待测元素的含量以每立方厘米中的原子数计。 注2:碳化硅单晶中钒杂质...
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