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光刻胶也称为 光致抗蚀剂(Photoresist,P. R.)定义:又称光致抗蚀剂,是一种有机化合物感光材料,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。• 作用:a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中; b、在后续工序中,保护下面的材料(刻蚀或离子注入)。• 用途:分立器件、集电电路(IC)、平板显示(FPD,LCD、PDP)、LED等。...
(完)优尼康:Filmetrics膜厚仪在光刻胶相关领域的应用 光刻胶厚度的量测,最初的方式是使用台阶仪来破坏性测试,因为光学测量可以快速无损测试,且干胶及湿胶均能够测试,目前大部分均已经采用光学方式测量膜厚。Filmetrics膜厚仪主要应用于光刻胶相关领域:(1)光刻胶原材料商及光刻胶制造商国内绝大部分的光刻胶制造商均购买了Filmetrics膜厚仪。...
常规光刻技术是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗光刻技术蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。在广义上,光刻包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面:1、光复印工艺:经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置,精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。...
-2021机械振动与冲击 信号处理 第3部分:时频分析方法2021-12-01138GB/T 31070.3-2021楼寓对讲系统 第3部分:特定应用技术要求2021-12-01139GB/T 31838.5-2021固体绝缘材料 介电和电阻特性 第5部分:电阻特性(DC方法) 浸渍和涂层材料的体积电阻和体积电阻率2021-12-01140GB/T 31838.6-2021固体绝缘材料 介电和电阻特性...
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