找不到引用GB/T 16527-1996 硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范 的标准
光刻胶也称为 光致抗蚀剂(Photoresist,P. R.)定义:又称光致抗蚀剂,是一种有机化合物感光材料,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。• 作用:a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中; b、在后续工序中,保护下面的材料(刻蚀或离子注入)。• 用途:分立器件、集电电路(IC)、平板显示(FPD,LCD、PDP)、LED等。...
半导体晶片上的光致抗蚀剂残留物 左:荧光 / 右: MIX(荧光 + 暗场)荧光观察适用于使用专用滤色片立方照明时能够发光的样品。其可用于检测污染物和光致抗蚀剂残留物。MIX照明可实现光致抗蚀剂残留和集成电路图形的观察。半导体晶片上的光致抗蚀剂残留物 左:荧光 / 右: MIX(荧光 + 暗场)荧光观察适用于使用专用滤色片立方照明时能够发光的样品。其可用于检测污染物和光致抗蚀剂残留物。...
沃特世依托于UPLC和质谱技术,提供了193纳米集成电路制造中沉浸式光刻技术用到的光阻涂层溶液分析方法,其可用于研发过程控制,还可依托于Empower强大的自定义计算能力生成批次报告。光致抗蚀剂配方常见的成分有光阻涂层溶剂、光酸生成剂(PAG)、光阻聚合物以及酸终止剂(NACL),这些成分在溶液中的比例,尤其酸生成剂与聚合物的比例,以及酸生成剂和终止剂的含量,甚至未知的杂质含量,都是需要精确控制。...
光刻技术,顾名思义就是一种用光刻印的技术,广泛应用于半导体制造行业以及许多其他纳米技术应用中。硅晶圆显微镜下的硅晶圆图1 显微镜下的硅晶圆 半导体制造在光刻工艺中,通常首先在硅晶圆上沉积一层光敏性光致抗蚀剂材料(光刻胶)。然后,光束通过光掩模照射到晶圆上,以将掩模图形呈现在光刻胶上,再使用显影剂溶解掉经过曝光的光刻胶区域。最后,选择性地在晶圆表面上的裸露区域内进行蚀刻或填充半导体、导电或绝缘材料。...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号