ISO 10110-1:2006
光学和光学仪器.光学元件和系统制图准备.第1部分:总则

Optics and photonics - Preparation of drawings for optical elements and systems - Part 1: General


哪些标准引用了ISO 10110-1:2006

 

BS EN ISO 128-2:2022 产品技术文档(TPD)表示的一般原则 线条的基本约定ISO 10110-12:2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第12部分:非球面ISO 10110-8:2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第8部分:表面结构ISO 10110-18:2018 光学和光子学 - 准备光学元件和系统的图纸 - 第18部分:材料缺陷 - 应力双折射 气泡和夹杂物以及均匀性和条纹ISO 10110-14:2018 光学和光子学. 光学元件和系统的制图准备. 第14部分: 波阵面变形公差DIN ISO 10110-7:2018 光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第7部分:表面缺陷(ISO 10110-7-2017)IEC TS 62989:2018 用于聚光光伏系统的初级光学器件BS ISO 14997:2017 光学和光子学.光学零件表面缺陷的试验方法BS ISO 10110-7:2017 光学和光子学.光学元件和系统制图.表面瑕疵ISO 10110-7:2017 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第7部分:表面缺陷公差BS ISO 9344:2016 显微镜.目镜用分度镜ISO 9344:2016 显微镜. 目镜用分度镜BS ISO 10110-9:2016 光学及光子学.光学元件和系统图纸的制备.表面处理和涂层ISO 10110-9:2016 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.第9部分:表面处理和镀层DIN ISO 10110-6:2016 光学和光子学.光学元件和系统图形的制备.第6部分:中心公差DIN ISO 10110-5:2016 光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第5部分:表面形状公差(ISO 10110-5-2015)DIN ISO 10110-12:2016 光学和光子学.光学元件和系统制图的制备.第12部分:非球面表面(ISO 10110-12-2007+Amd 1-2013)NF S10-008-5*NF ISO 10110-5:2015 光学和光子学.光学元件和系统制图.第5部分:表面形状公差NF S10-008-6*NF ISO 10110-6:2015 光学和光子学.光学元件和系统用图纸制备.第6部分:定心公差BS ISO 10110-5:2015 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.表面形状公差ISO 10110-5:2015 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.第5部分:表面形状公差ISO 10110-6:2015 光学和光子学.光学元件和系统制图准备 第6部分:中心公差BS ISO 10110-6:2015 光学及光子学.光学元件和系统图纸的制备.定心公差BS EN ISO 11151-2:2015 激光和激光相关设备.标准光学元件.红外光谱范围内的元件BS ISO 10110-19:2015 光学和光子学. 光学元件和系统用图纸的编制. 表面和部件的通用描述BS EN ISO 11151-1:2015 激光和激光相关设备.标准光学元件.紫外线,可见光和近红外光谱范围内的元件EN ISO 11151-2:2015 激光和激光相关设备.标准光组件.第2部分:红外光谱范围内的元件(ISO 11151-2:2015)EN ISO 11151-1:2015 激光和激光相关设备.标准光组件.第1部分:对紫外线成分,可见和近红外光谱范围内的元件(ISO 11151-1:2015)ISO 11151-2:2015 激光和激光设备 标准光学元件 第2部分:红外光谱范围用元件ISO 11151-1:2015 激光和激光设备 标准光学元件 第1部分:紫外线、可见和近红外光谱范围用元件NF E04-524-24:2014 技术图纸. 表示的一般原则. 第24部分: 机械工程制图线BS ISO 128-24:2014 技术图纸. 表示的一般原则. 机械工程制图线ISO 25297-1:2012 光学和电子学.光学数据的电子交换.第1部分:NODIF信息模型DIN ISO 10110-7:2009 光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第7部分:表面缺陷公差(ISO 10110-7:2008),DIN ISO 10110-7:2009-06的英文版本DIN ISO 10110-12:2009 光学和光子学.光学元件和系统制图的制备.第12部分:非球面表面DIN ISO 10110-5:2008 光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第5部分:表面形状公差(ISO 10110-5-2007).英文版本DIN ISO 10110-5-2008DIN ISO 10110-14:2008 光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第14部分:波阵面变形公差(ISO 10110-14-2007).英文版本DIN ISO 10110-14-2008ISO 10110-7:2008 光学和光子学.光学元件和设备制图的准备工作.第7部分:表面缺陷公差ISO 10110-12:2007 光学和光子学.光学元件和系统制图.第12部分:非球面表面ISO 10110-14:2007 光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第14部分:波阵面变形公差ISO 10110-5:2007 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.第5部分:表面形状公差
ISO 10110-1:2006

标准号
ISO 10110-1:2006
发布
2006年
发布单位
国际标准化组织
替代标准
ISO 10110-1:2019
当前最新
ISO 10110-1:2019
 
 
引用标准
ISO 10110-2 ISO 128-24 ISO 406 ISO 7944 ISO 8015
ISO 10110 规定了用于制造和检验的技术图纸中光学元件和系统的设计和功能要求的表示。 ISO 10110 的这一部分规定了光学元件和系统的特性(尤其是公差)在图纸中的表示。 各种国际标准中给出了技术图纸的准备以及尺寸和公差的规则。 仅当 ISO 10110 各部分未给出必要规则时,这些通用标准才适用于光学元件和系统。

推荐


ISO 10110-1:2006 中可能用到的仪器设备


谁引用了ISO 10110-1:2006 更多引用





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号