05气相沉淀 气相沉积是指利用气相中发生的物理化学反应,在材料表面形成具有特种性能的金属或化合物涂层的过程。按照成膜机理,可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。 航天装备中的一些微电子芯片、微波元器件常常利用化学气相沉积得到所需沉积薄膜,所涉及的材料大多数为硅、碳纤维、碳纳米纤维、SiO2、氮化硅等材料。...
(二)离子注入 高电压下将不同离子注入工件表面令其表面改性的过程,称为离子注入,如注硼等。 (三)化学气相沉积(CVD) 低压(有时也在常压)下,气态物质在工件表面因化学反应而生成固态沉积层的过程,称为化学气相镀,如气相沉积氧化硅、氮化硅等。五、其它方法主要是机械的、化学的、电化学的、物理的方法。其中的主要方法是。...
此外,研究人员还能够通过破坏性较小的化学气相沉积法来制造这种薄膜,化学气相沉积法沉积出的含有锗空位的薄膜具有更窄和更稳定的发射峰,这种薄膜将在生物标记上发挥巨大作用。总体上,这项工作开辟了制造发光单原子源的新的领域,这对量子密码而言是非常有潜力的。岩崎和同事还希望,他们可以在纳米金刚石中掺入锗空位用作生物标记物。...
其最大的优势在于能以极少的材料和能源消耗制备出基体材料难以甚至无法获得的性能优异的表面薄层,从而获得最大的经济效益,它是一种优质高效的表面改性与涂层技术。 优质、高效的表面改性与涂层技术其范围广阔:如热化学表面技术;物理气相沉积;化学气相沉积;物漓蜡学气相沉积技术;高能等离体表面涂层技术;金刚石薄膜涂层;多元多层复和涂层技术;表面改性及涂层性能猜测及剪裁技术;性能测试与寿命评估等等。...
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