JJF 1220-1990
903.89～1337.58K 温度基准操作技术规范

903.89~1337.58K temperature reference operation technical specification

2009-11

JJF 1220-1990 中，可能用到以下仪器

 

福禄克 9114/9115A/9116A 传统固定点复现/保存装置

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福禄克测试仪器（上海）有限公司

 

FPD系列凝固点降低实验装置

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南京南大万和科技有限公司

 

连续退火实验与模拟系统

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QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司

 

centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150

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北京亚科晨旭科技有限公司

 

Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150

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北京亚科晨旭科技有限公司

 

centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150

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北京亚科晨旭科技有限公司

 

Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150

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北京亚科晨旭科技有限公司

 

GSL-1100X-MGI-16 1100℃ 16通道管式炉

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沈阳科晶自动化设备有限公司

 

Centrotherm 快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型

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北京亚科晨旭科技有限公司

 

centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150可用于多种类型炉体， 如研发炉和批量生产炉， 且处理灵活性高

centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150可用于多种类型炉体， 如研发炉和批量生产炉， 且处理灵活性高

北京亚科晨旭科技有限公司

 

Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150可用于常规的硅圆片的氧化

Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150可用于常规的硅圆片的氧化

北京亚科晨旭科技有限公司

 

Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150具有性能高、占地小和生产成本低等特点

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北京亚科晨旭科技有限公司

 

桌面式快速退火炉RTP-离子注入退火与电极合金化

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上海螣芯电子科技有限公司

 

JJF 1220-1990
标准号
JJF 1220-1990
发布单位
国家计量技术规范
替代标准
JJF 1220-2009
当前最新
JJF 1220-2009
 
 

JJF 1220-1990相似标准

JJF 1221-1990 903.89～1337.58K 温度副基准操作技术规范 JJF 1319-1990 色温度基准操作技术规范 JJF 1320-1990 色温度副基准操作技术规范 JJF 1216-1990 90.188～273.15K 温度基准操作技术规范 JJF 1218-1990 273.15～903.89K 温度基准操作技术规范

JJF 1220-1990 中可能用到的仪器设备

培养仪器/培养箱 冰点仪 热封仪、实验室热封仪 其他包装业专用


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