HCFC混合料B(CF3CCl 2H、 Ar和CF4)的搬运、运输和储存的标准实施规程 是非强制性国家标准,您可以免费下载预览页
图2.使用XeF2进行自发硅蚀刻,该图显示,当使用不同时长的脉冲(载气为Ar,压力为0.5毫巴)引入蚀刻气体时,信号最强的几种蚀刻物质信号随时间的变化情况。CF4/O2化学混合物中的反应离子硅蚀刻我们在微波等离子体蚀刻器和标准反应离子蚀刻室(RIE)中也都进行了相应的实验。...
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