ASTM E1127-08
俄歇电子能谱学中的深度压形的标准指南

Standard Guide for Depth Profiling in Auger Electron Spectroscopy


哪些标准引用了ASTM E1127-08

 

ASTM E1078-14(2020) 标本制备和表面分析安装标准指南ASTM E2735-14(2020) 用于选择X射线光电子能谱所需校准的标准指南ASTM E996-19 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程ASTM E1078-14 表面分析用样品制备和安装的标准指南ASTM E2735-14 选择X射线光电子光谱40;XPS41试验所需校准的标准指南ASTM E1636-10 用扩展的逻辑函数描述深度剖面和行扫描剖面数据的标准实施规程ASTM E996-10 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程ASTM E1636-04 用扩展的逻辑函数分析描述溅射深度剖面接口数据的标准规程ASTM E1577-04 用于表面分析的离子束参数报告的标准指南ASTM E684-04 固体表面溅射深度仿形加工用大直径离子束的电流密度近似测定的标准规程ASTM E684-95(2000) 固体表面溅射深度仿形加工用大直径离子束的电流密度近似测定的标准规程
标准号
ASTM E1127-08
发布
2008年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM E1127-08(2015)
当前最新
ASTM E1127-08(2015)
 
 
俄歇电子能谱产生有关近表面区域固体表面的化学和物理状态的信息。无损深度剖析仅限于该近地表区域。 (1) 中给出了测量凹坑深度和薄膜厚度的技术。离子溅射主要用于深度小于 1 µm 的情况。角度研磨或机械凹坑主要用于深度大于 1 米的量级。用于研究界面的深度分析方法的选择取决于表面粗糙度、界面粗糙度和薄膜厚度 (2)。深度剖面界面宽度可以使用逻辑函数来测量，该函...

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ASTM E1127-08 中可能用到的仪器设备

俄歇电子能谱（AES）

谁引用了ASTM E1127-08 更多引用

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