GB/T 24578-2009
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
- 标准号
- GB/T 24578-2009
- 发布日期
- 2009年10月30日
- 实施日期
- 2010年06月01日
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- H80
- 国际标准分类号
- 29.045
- 发布单位
- CN-GB
- 引用标准
- GB/T 2828.1-2003 GB/T 14264-1993 SEMI MF 1526
- 适用范围
- 本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法。
本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片，尤其适用于清洗后硅片自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。
本方法适用于测量面密度在(10
～10 )atoms/cm 的范围的元素。 本方法是非破坏性的。
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GB/T 24578-2009 中可能用到的仪器设备
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光学仪器组件
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拉曼光谱仪
近红外光谱仪
X射线能谱仪(EDS)
光纤光谱仪
分子荧光光谱/荧光分光光度计
紫外可见分光光度计
ICP光谱/MP-AES/ICP-AES
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红外光谱仪
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光源/氙灯光源/汞灯光源
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