YS/T 719-2009
平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶
Flat magneting sputtering target.Silicon target for optical coating
YST719-2009, YS719-2009
YS/T 719-2009 中，可能用到以下仪器
- 标准号
- YS/T 719-2009
- 别名
- YST719-2009
YS719-2009 - 发布
- 2009年
- 发布单位
- 行业标准-有色金属
- 当前最新
- YS/T 719-2009
- 引用标准
- GB/T 12963-2009 GB/T 1551-2009 GB/T 2040-2008 GB/T 5121-2008 GB/T 5231-2001
- 本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、订货单(合同)内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
YS/T 719-2009相似标准
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