适用于表面质量评级的规定包括:ANSI/OEOSC OP1.002-2009,针对光学和电光仪器 – 光学元素和组件 – 外观缺陷*ISO 10110-8:2010光学和光子学 -- 光学元件和系统图的绘制 --第8部分:表面结构;粗糙度和波痕*MIL-PRF-13830B;管理火控仪器光学组件的制造、组装和检测的一般规格*可以按照这些标准制造爱特蒙特光学的自定义光学组件爱特蒙特光学遵循zui常用的表面质量评级方法...
得益于3D纳米结构高速直写机(NanoFrazor)在光刻胶上能实现亚纳米级精度的加工,Norris教授课题组运用该方法制备了光电子学相板、光栅耦合器和透镜等元件。获得的元件通过后续组装过程制备成高稳定、高质量的光学微腔结构。随后,通过缩小图形长度比例的方法,引入电子傅里叶曲面,在hBN上实现复杂的高精度微纳结构,展现了NanoFrazor在3D纳米加工领域的潜力。- 图文导读 -图1....
在基片表面涂覆一层某种光敏介质的薄膜(抗蚀胶),曝光系统把掩模板的图形投射在(抗蚀胶)薄膜上,光(光子)的曝光过程是通过光化学作用使抗蚀胶发生光化学作用,形成微细图形的潜像,再通过显影过程使剩余的抗蚀胶层转变成具有微细图形的窗口,后续基于抗蚀胶图案进行镀膜、刻蚀等可进一步制作所需微纳结构或器件。 掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。...
了解这些形貌对于镀膜和工艺的发展很重要,但对于激光光学应用来说,形态学仅对确定损伤是否会显著降低激光系统的性能很重要。系统能够处理的性能下降程度取决于应用。例如,在某些情况下可以容忍透射降低 10%,但在另一个系统中,如果散射的入射光超过 1%,就可能出现故障。根据 ISO 21254:2011 标准,激光元件在暴露于激光后出现的可察觉变化都被认为是损伤。...
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