BS EN 62374-2008

Semiconductor devices. Time dependent dielectric breakdown (TDDB) test for gate dielectric films

BS EN 62374-2008 发布历史

BS EN 62374-2008由英国标准学会 GB-BSI 发布于 2008-10-31，并于 2008-10-31 实施。

BS EN 62374-2008在国际标准分类中归属于: 31.080.01 半导体器分立件综合。

BS EN 62374-2008的历代版本如下：

• 2010年12月31日 BS EN 62374-1-2010 半导体装置.依赖时间的金属层间的介质击穿(TDDB)试验
• 2008年10月31日 BS EN 62374-2007 半导体装置.依赖时间的栅极介电薄膜的介质击穿(TDDB)试验
• 2008年10月31日 BS EN 62374-2008

非常抱歉，我们暂时无法提供预览，您可以试试： 免费下载 BS EN 62374-2008 前三页，或者稍后再访问。

注意： 点击下载后，生成下载文件时间比较长，请耐心等待......

标准号

BS EN 62374-2008

发布日期

2008年10月31日

实施日期

2008年10月31日

废止日期

无

国际标准分类号

31.080.01

发布单位

GB-BSI

被代替标准

04/30113827 DC-2004