DIN EN 62418-2010
半导体器件.金属化应力空隙试验(IEC 62418-2010);德文版本EN 62418-2010

Semiconductor devices - Metallization stress void test (IEC 62418:2010); German version EN 62418:2010


DIN EN 62418-2010 发布历史

DIN EN 62418-2010由德国标准化学会 DE-DIN 发布于 2010-12,并于 2010-12-01 实施。

DIN EN 62418-2010 在中国标准分类中归属于: L40 半导体分立器件综合,在国际标准分类中归属于: 31.080.01 半导体器分立件综合。

DIN EN 62418-2010的历代版本如下:

  • 2010年12月 DIN EN 62418-2010 半导体器件.金属化应力空隙试验(IEC 62418-2010);德文版本EN 62418-2010

 

 

非常抱歉,我们暂时无法提供预览,您可以试试: 免费下载 DIN EN 62418-2010 前三页,或者稍后再访问。

点击下载后,生成下载文件时间比较长,请耐心等待......

 



标准号
DIN EN 62418-2010
发布日期
2010年12月
实施日期
2010年12月01日
废止日期
中国标准分类号
L40
国际标准分类号
25.220.40;31.080.01
发布单位
DE-DIN




Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号