ASTM F1238-95(2011)
微电子设备用耐熔硅化物溅射电极的标准规范
Standard Specification for Refractory Silicide Sputtering Targets for Microelectronic Applications
- 标准号
- ASTM F1238-95(2011)
- 发布
- 1995年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 当前最新
- ASTM F1238-95(2011)
- 适用范围
- 1.1 本规范涵盖由金属硅化物（硅化钼、硅化钽、硅化钛和硅化钨）制成的溅射靶材。这些靶材被称为难熔硅化物靶材，旨在用于微电子应用。
1.2 以 SI 单位表示的值应被视为标准值。本标准不包含其他计量单位。