GB/T 15861-2012
离子束蚀刻机通用规范

General specification of ion beam etching system


GB/T 15861-2012 中,可能用到以下仪器

 

TriVersa NanoMate 芯片多通道纳喷离子源

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华质泰科生物技术(北京)有限公司

 

DBDI-100 介质阻挡放电离子源

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宁波华仪宁创智能科技有限公司

 

LESA 纳喷机器人离子源

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华质泰科生物技术(北京)有限公司

 

DESI 解吸附电喷雾离子源

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华质泰科生物技术(北京)有限公司

 

DART-TD 热脱附实时直接分析质谱离子源

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华质泰科生物技术(北京)有限公司

 

Flowprobe 流动微萃取探针离子源

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华质泰科生物技术(北京)有限公司

 

GB/T 15861-2012



标准号
GB/T 15861-2012
发布日期
2012年11月05日
实施日期
2013年02月15日
废止日期
中国标准分类号
L97
国际标准分类号
31.550
发布单位
CN-GB
引用标准
GB/T 4857.7-2005 GB/T 191 GB/T 5080.7-1986 GB/T 6388-1986 GB/T 13384-1992 SJ/T 142 SJ/T 1276 SJ/T 10674
被代替标准
GB/T 15861-1995
适用范围
本标准规定了离子束蚀刻机的术语、产品分类、技术要求、试验方法、检验规则以及包装、运输、贮存。 本标准适用于物理溅射腐蚀作用的通用离子束蚀刻机。其他专用离子束蚀刻机亦可参照执行。

GB/T 15861-2012系列标准


GB/T 15861-2012 中可能用到的仪器设备





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