GB/T 29505-2013
硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer
GBT29505-2013, GB29505-2013
GB/T 29505-2013 发布历史
本标准提供了硅片表面粗糙度测量常用的轮廓仪、干涉仪、散射仪三类方法的测量原理、测量设备和程序,并规定了硅片表面局部或整个区域的标准扫描位置图形及粗糙度缩写定义。本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量;也可用于其他类型的平坦晶片材料,但不适用于晶片边缘区域的粗糙度测量。本标准不适用于带宽空间波长≤10 nm的测量仪器。
GB/T 29505-2013由国家质检总局 CN-GB 发布于 2013-05-09，并于 2014-02-01 实施。
GB/T 29505-2013 在中国标准分类中归属于: H81 半金属，在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。
GB/T 29505-2013 发布之时，引用了标准
- GB/T 14264 半导体材料术语
GB/T 29505-2013的历代版本如下：
- 2013年 GB/T 29505-2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
- 标准号
- GB/T 29505-2013
- 别名
- GBT29505-2013
GB29505-2013 - 发布
- 2013年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 29505-2013
- 引用标准
- GB/T 14264