GB/T 31225-2014
椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法

Test method for the thickness of silicon oxide on Si substrate by ellipsometer

GBT31225-2014, GB31225-2014


GB/T 31225-2014 发布历史

GB/T 31225-2014由国家质检总局 CN-GB 发布于 2014-09-30,并于 2015-04-15 实施。

GB/T 31225-2014 在中国标准分类中归属于: J04 基础标准与通用方法,在国际标准分类中归属于: 17.040.01 长度和角度测量综合。

GB/T 31225-2014 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法的最新版本是哪一版?

最新版本是 GB/T 31225-2014

GB/T 31225-2014 发布之时,引用了标准

GB/T 31225-2014的历代版本如下:

  • 2014年 GB/T 31225-2014 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法

 

本标准给出了使用连续变波长、变角度的光谱型椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法。本标准适用于测试硅基底上厚度均匀、各向同性、10 nm~1 000 nm厚的二氧化硅薄层厚度,其他对测试波长处不透光的基底上单层介电薄膜样品厚度测量可以参考此方法。

GB/T 31225-2014

标准号
GB/T 31225-2014
别名
GBT31225-2014
GB31225-2014
发布
2014年
发布单位
国家质检总局
当前最新
GB/T 31225-2014
 
 
引用标准
JJF 1059.1-2012

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