GB/T 32279-2015
硅片订货单格式输入规范

GB/T 32279-2015 发布历史

GB/T 32279-2015由国家质检总局 CN-GB 发布于 ，并于 2017-01-01 实施。

GB/T 32279-2015 发布之时，引用了标准

• GB/T 1550 非本征半导体材料导电类型测试方法*， 2018-12-28 更新
• GB/T 1551 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法*， 2021-05-21 更新
• GB/T 1553 硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 1554 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 1555 半导体单晶晶向测定方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 1557 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法*， 2018-09-17 更新
• GB/T 1558 硅中代位碳原子含量.红外吸收测量方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 4058 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 6618 硅片厚度和总厚度变化测试方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 6619 硅片弯曲度测试方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 6620 硅片翘曲度非接触式测试方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 6621 硅片表面平整度测试方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 6624 硅抛光片表面质量目测检验方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 11073 硅片径向电阻率变化的测量方法*， 2007-09-11 更新
• GB/T 12965 硅单晶切割片和研磨片*， 2018-09-17 更新
• GB/T 13387 硅及其他电子材料晶片参考面长度测量方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 13388 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 14139 硅外延片*， 2019-06-04 更新
• GB/T 14140 硅片直径测量方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 14142 硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法*， 2017-09-29 更新
• GB/T 14144 硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法*， 2009-10-30 更新
• GB/T 14264 半导体材料术语*， 2009-10-30 更新
• GB/T 14847 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法*， 2011-01-10 更新
• GB/T 19921 硅抛光片表面颗粒测试方法*， 2018-12-28 更新
• GB/T 公共就业服务 总则

* 在 GB/T 32279-2015 发布之后有更新，请注意新发布标准的变化。

GB/T 32279-2015的历代版本如下：

• 2015年12月10日 GB/T 32279-2015 硅片订货单格式输入规范

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标准号

GB/T 32279-2015

发布日期

实施日期

2017年01月01日

废止日期

无

发布单位

CN-GB

GB/T 32279-2015系列标准