日本电子IB-19530CP截...
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  • 主要技术指标

离子加速电压

2~8kV

刻蚀速率

500μm/h

承载样品的zei大尺寸

11mm(宽度)×10mm(长度)×2mm(厚度)

样品摆动功能

刻蚀过程中,样品自动摆动±30° (zl:第4557130号)

自动加工开始模式

达到设定的压力值后可自动开始加工。

间歇加工模式

脉冲控制离子束流照射,可以抑制加工时产生的热量。

精抛加工模式

主加工结束后,自动开始精抛加工。

  • *产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更。


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