【技术特点】-- 日本电子IB-19530CP截面样品制备装置

• IB-19530CP　截面样品制备装置

• 为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。

为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。

根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。

◇ 高通量

通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能，不需花费时间等待加工开始，短时间内就能刻蚀。

◇ 自动加工程序

快速加工和精抛加工可以程序化，短时间内就能制备出高质量的截面。此外，利用间歇加工模式，还能抑制加工温度。

◇ 设置简单

功能性样品座采用模块化设计，在光学显微镜（另售）下也能调整加工位置。

◇ 多用途样品台

通过选择各种功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。

◇ 高耐久性遮光板

遮光板的耐久性是旧机型的3倍左右，能支持高速率加工和长时间刻蚀。

【技术特点对用户带来的好处】-- 日本电子IB-19530CP截面样品制备装置

【典型应用举例】-- 日本电子IB-19530CP截面样品制备装置