Q150T ES PLUS高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪技术特点

【技术特点】-- Q150T ES PLUS高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪

金属溅射和碳蒸发两者兼备，一体化设计，结构紧凑，节约空间。
精细颗粒溅射——适合先进的高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的应用。
涡轮分子泵高真空系统——允许溅射宽范围的易氧化和不氧化金属，适合普通SEM、高分辨率FESEM和薄膜材料研究等多种应用。
全自动触摸屏控制——快速数据输入，操作简单。采用触摸屏作为简单的操作核心，即使zei不熟练的或偶而使用的操作者，仪器也能使其快速键入和贮存自己的处理数据。程序中已贮存各种典型的镀膜参数资料供用户直接调用，以便为新手提供进一步的易操作帮助。
可储存多个客户自定义镀膜方案——对多用户实验室十分理想。
与镀膜过程和镀膜材料相匹配的自动进气控制真空——无需针阀调节。
精细的厚度控制——使用膜厚监控选项。
“智能”式系统识别——自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型。
高真空蒸镀碳——理想的SEM和TEM镀碳膜应用。
先进的碳棒蒸发枪设计——简单操作，重复性好。
蒸发电流波形控制——确保获得稳定的可复制碳膜。
Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台）。
真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空下保存样品。
镀制厚膜能力——一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用）
人体工程学设计的整体成型机箱——易维护和易拆装。

【技术特点对用户带来的好处】-- Q150T ES PLUS高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪

【典型应用举例】-- Q150T ES PLUS高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪