Park NX20

缺陷分析的最佳选择

 

作为一款缺陷形貌分析的精密测量仪器，其主要目的是对样品进行缺陷检测。

而仪器所提供的数据不能允许任何错误的存在。Park NX20，这款全球最精密

的大型样品原子力显微镜，凭借着出色的数据准确性，在半导体和超平样品行

业中大受赞扬。

 

最强大全面的分析功能

具备独一无二的功能，可快速帮助客户找到产品失效的原因，并帮助

客户制定出更多具有创意的解决方案。无与伦比的精密度为您带来高分辨率数

据，让您能够更加专注于工作。与此同时，真正非接触扫描模式让探针尖端更耐用，无需为频繁更换探针而耗费大量的时间和金钱。

 

 

即便是第一次接触原子显微镜的工程师也易于操作

 

ParkNX20拥有业界最为便捷的设计和自动界面，让你在使用时无需花费大量

的时间和精力，也不用为此而时时不停的指导初学者。借助这一系列特点，您

可以更加专注于解决更为重大的问题，并为客户提供及时且富有洞察力的失效

分析报告。

Park Nx 20

创新工作的创新特征

为FA和研究实验室提供精准的形貌测量解决方案

■缺陷检查成像和分析

■高分辨率电子扫描模式

■对样品和基片进行表面粗糙度测量

■样品侧壁三维结构测量

低噪音Z探测器可精确测量AFM表面形貌

■非接触模式，降低针尖磨损，减少换探针时间

■非接触模式下的快速缺陷成像

■业内领先的三维结构测量的解耦XY扫瞄系统

■通过使用热匹配的组件，尽量减少系统漂移和迟滞现象

低噪声Z探测器可精确测量AFM表面形貌

■业界领先的低噪声Z检测器测量样品表面形貌

■没有过沿过冲和压电蠕变误差的真正样品表面形貌

■即使是高速扫描也可以保持精确的表面高度

■行业领先的前向和后向扫描间隙横向漂移小于0.15%

用真正的非接触扫描方式节省成本

■在一般用途和缺陷成像中，具有普通扫描模式10倍或更长的针尖使用寿命

■减少针尖的尖端摩损

■最真实的再现样品微观三维形貌，减少样品在扫描过程中的损坏或变形