帕克原子力显微镜公司（Park Systems，以下称：帕克）为满足半导体客户对大面积扫描和纳米级计量日益增长的需求，最新推出了Park NX-Hybrid WLI半导体机台，可为用户提供全面的计量解决方案。此机台不仅可实现亚埃米级的高精度微观形貌测量，同时在成像时还具有测量区域大、吞吐量高的优点。

Park NX-Hybrid WLI半导体机台，作为一种功能强大的半导体计量工具，首次将原子力显微镜 (AFM) 与白光干涉仪 (WLI) 轮廓测量技术二者的核心优势整合为一个最佳系统。其中， 白光干涉测量 (WLI) 是一种无损伤、非接触式的光学技术，用于生成高保真的2D 和 3D 的轮廓模型，现已成为半导体生产质量保证。然而，单独的 WLI 已经不能满足特定的需要，应运而生的Park NX-Hybrid WLI适用于更高分辨率和精确度的应用，例如高级化学机械抛光 (CMP) 计量和监测、凹陷、腐蚀和边缘过度腐蚀 (EOE) ，膜厚，柱高，孔结构和模具比较。除此之外，它还能应用于包括硅通孔 (TSV) 、微凸点测量重分布层 (RDL) 测量和光刻胶残留检测在内的高级封装。