(一). 多功能电子束光刻设备PioneerTwo：
PioneerTwo是一款经济实惠且性能卓越的电子束光刻设备，采用30kVGemini电子束技术，适用于2英寸以下的晶圆纳米级光刻、高分辨成像和低压电子束光刻。在HSQ胶上，可以曝光出亚8nm的线条

(二). 多功能电子束光刻设备eLinePlus：
eLinePlus是一款集成了纳米操纵设备，如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件的电子束光刻设备，广泛应用于学校和各大科研机构，采用30kVGemini电子束技术，适用于4英寸以下基板的纳米级光刻、纳米工程、纳米操纵、纳米探测、纳米轮廓仪、聚焦电子束诱导和成像分析等。在HSQ胶上，可以制作出亚5nm的线条

(三). 专业型电子束光刻设备Raith150Two：
Raith150Two是一款高分辨率的电子束光刻设备，采用30kVGemini电子束技术，适用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻，能实现亚5nm的曝光结构。在HSQ胶上，可以制作出亚4.5nm的线条，以及在PMMA胶上制作精细的11nm线条

(四). 专业型电子束光刻设备Voyager：
Voyager是一款采用创新的eWrite体系结构的电子束光刻设备，性能和价格都非常有竞争力，采用50kVeWrite电子束技术，适用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的高速直写，适合衍射光学元件、防伪元件的加工及化合物半导体器件的高速加工。在HSQ胶上，可以制作出亚7nm线条

(五). 专业型电子束光刻设备EBPG5150/5200：
EBPG5150/5200是一款高度自动化的电子束光刻设备，采用100kVEBPG电子束技术，适用于8英寸以下基板（5150可曝光面积6英寸、5200可曝光面积8英寸）的高深宽比纳米结构曝光、高速电子束直写，适合防伪标识的加工及化合物半导体器件的高速加工。关于GaAsT型器件制作和化合物半导体上的应用，请咨询******微信同号）；