(一).多功能电子束光刻设备PioneerTwo:
PioneerTwo是一款采用30kVGemini电子束技术的高性价比的成套电子束光刻设备，适用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像和低压电子束光刻。在HSQ胶上曝光亚8nm线条。

(二).多功能电子束光刻设备eLinePlus:
eLinePlus是一款集成了纳米操纵设备的电子束光刻设备，包括纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件。广泛应用于学校和各大科研机构，采用30kVGemini电子束技术，适用于4英寸以下基板的纳米级光刻、纳米工程、纳米操纵、纳米探测、纳米轮廓仪、聚焦电子束诱导和成像分析等。在HSQ胶上制作亚5nm线条。

(三).专业型电子束光刻设备Raith150Two:
Raith150Two是一款采用30kVGemini电子束技术的高分辨电子束光刻设备，适用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的纳米级光刻、高分辨成像和低压电子束光刻，可实现亚5nm的曝光结构。在HSQ胶上制作亚4.5nm线条及PMMA胶上制作精细的11nm线条。

(四).专业型电子束光刻设备Voyager:
Voyager是一款采用50kVeWrite电子束技术的高性价比电子束光刻设备，采用创新的eWrite体系结构，适用于8英寸以下基板（可曝光面积6英寸）的高速直写，适合衍射光学元件、防伪元件的加工及化合物半导体器件的高速加工。在HSQ胶上制作亚7nm线条。

(五).专业型电子束光刻设备EBPG5150/5200:
EBPG5150/5200是一款高自动化的电子束光刻设备，采用100kVEBPG电子束技术，适用于8英寸以下基板（5150可曝光面积6英寸、5200可曝光面积8英寸）的高深宽比纳米结构曝光、高速电子束直写，适合防伪标识的加工及化合物半导体器件的高速加工。电子束直写系统EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。ImprovedSpecifications· Ultra-fast,low-noisepatterngenerator125MHz· Extremebeamcurrentupto350nA· Excellentdirectwriteperformancewithoverlayaccuracyof ≤5nm 

高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换 155mm的平台最小曝光特征尺寸小于8nm 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，最大可以到1mmGUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求可选的系统增强升级EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。电子束直写系统EBPG5150应用咨询******微信同号）。