(一). PioneerTwo多功能电子束光刻设备：

     PioneerTwo采用30kVGemini电子束技术，可用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻。在HSQ胶上曝光可制作出亚8nm线条。

(二). eLinePlus多功能电子束光刻设备：

     eLinePlus是一款集成了纳米操纵设备的电子束光刻设备，广泛应用于学校和各大科研机构，采用30kVGemini电子束技术，在4英寸以下基板上制作亚5nm线条，可实现纳米工程、纳米操纵、纳米探测和其他纳米级应用。

(三). Raith150Two专业型电子束光刻设备：

     Raith150Two是一款高分辨电子束光刻设备，采用30kVGemini电子束技术，可应用于8英寸以下基板的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻，并可实现亚5nm的曝光结构。

(四). Voyager专业型电子束光刻设备：

     Voyager采用50kVeWrite电子束技术，适用于8英寸以下基板的高速直写，可用于衍射光学元件、防伪元件的加工及化合物半导体器件的高速加工，并在HSQ胶上制作亚7nm线条。

(五). EBPG5150/5200专业型电子束光刻设备：

     EBPG5150/5200采用100kVEBPG电子束技术，应用于8英寸以下基板的高深宽比纳米结构曝光、高速电子束直写，可选择不同的升级选项适用于不同应用的需求。可实现超快速且低噪声的曝光，具有较高的束流密度和出色的直写性能，可实现≤5nm的叠加精度。