OPTM系列显微分光膜厚仪头部集成了薄膜厚度测量所需功能。通过显微光谱法测量高精度绝对反射率（多层膜厚度，光学常数），1点1秒高速测量显微分光下广范围的光学系统（紫外至近红外）区域。传感器的安全机制易于分析向导，初学者也能够进行光学常数分析。独立测量头对应各种inline客制化需求，支持各种自定义。

OPTM系列显微分光膜厚仪选型表

OPTM-A1

波長范围：230~800nm

膜厚范围：1nm~35μm

测定时间：1秒/1点

光斑大小：10μm(*小约5μm)

感光元件：CCD

光源規格：氘灯+卤素灯

电源規格：AC100V±10V750VA（自动样品台规格）

尺寸：555(W)×537(D)×568(H)mm(自动样品台规格之主体部分)

重量：约55kg（自动样品台规格之主体部分）

OPTM-A2

波長范围：360~1100nm

膜厚范围：7nm~49μm

测定时间：1秒/1点

光斑大小：10μm(*小约5μm)

感光元件：InGaAs

光源規格：卤素灯

电源規格：AC100V±10V750VA（自动样品台规格）

尺寸：555(W)×537(D)×568(H)mm(自动样品台规格之主体部分)

重量：约55kg（自动样品台规格之主体部分）

OPTM-A3

波長范围：900~1600nm

膜厚范围：16nm~92μm

测定时间：1秒/1点

光斑大小：10μm(*小约5μm)

感光元件：InGaAs

光源規格：卤素灯

电源規格：AC100V±10V750VA（自动样品台规格）

尺寸：555(W)×537(D)×568(H)mm(自动样品台规格之主体部分)

重量：约55kg（自动样品台规格之主体部分）

测量项目：绝对反射率测量多层膜解析光学常数分析（n：折射率，k：消光系数）

测量示例：SiO2SiN[FE-0002]的膜厚测量半导体晶体管通过控制电流的导通状态来发送信号，但为了防止电流泄漏和另一个晶体管的电流流过任意路径，有必要隔离晶体管，埋入绝缘膜。SiO2（二氧化硅）或SiN（氮化硅）可用于绝缘膜。SiO2用作绝缘膜，而SiN用作具有比SiO2更高的介电常数的绝缘膜，或是作为通过CMP去除SiO2的不必要的阻挡层。之后SiN也被去除。为了绝缘膜的性能和精确的工艺控制，有必要测量这些膜厚度。