产地：美国； 品牌：MVSystems
R&D Cluster tools 研发用团簇PECVD PVD
R&D Cluster tools
Cluster tool w/ 8 port locations
具有8个腔室的团簇型沉积系统
30x40cm substrate
衬底尺寸为30x40cm
Computer controlled
可完全由电脑程序控制操作运行
?PECVD, HWCVD and Sputter capability 制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射。
热丝CVD设备HWCVD MVS
PECVD MVS
卷对卷柔性薄膜沉积设备 MVS
在线式HIT用PECVD MVS
瞬渺镀膜机 SiNx－PECVD
产品描述
