PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性

产品属性

  • 品牌Picosun
  • 产地欧洲
  • 型号PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
  • 关注度1114
  • 信息完整度
  • 供应商性质总代理
  • 产地类别进口
  • 价格范围200万-300万
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产品描述

PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了zui大的产出效率,并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性,甚至能完全满足具有zui严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本,系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除,我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求,确保每时每(24/7/365)快速提供全面的解决方案。在购买之前,我们提供做样服务,确保系统具有zui好的性能,完全满足您的需求。

技术指标

 

衬底尺寸和类型

50 – 200 mm /单片

156 mm x 156 mm 太阳能硅片

150 mm x 150 mm 显示面板

工艺温度

50 - 500 °C , 可选更高温度

基片传送选件

气动升降(手动装载)

半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现

25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现

标准

SEMI S2 认证(认证中)

前驱体

液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体(zui多4路气体):

前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务

6根独立源管线,zui多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线)

重量

790 kg

尺寸 (W x H x D)

160 cm x 80 cm x 240 cm

可选件

集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器,尾气处理器,定制设计,与 工厂软件连接服务。

验收标准

标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,

其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:

--不均匀性

--颗粒物含量

--重金属污染

--电学性能


北京亚科晨旭科技有限公司

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