TOF-SIMS是一种非常灵敏的表面分析技术，适用于许多工业和研究应用。该技术通过对一次离子束轰击样品表面产生的二次离子进行质量分析，并行探测所有元素和化合物，具有极高的传输率（可达到100%），只需要一次轰击就可以得到研究点的完整质量谱图，从而提供有关样品表面、薄层、界面的详细元素和分子信息，并能提供全面的三维分析。其用途广泛，包括半导体，聚合物，涂料，涂层，玻璃，纸张，金属，陶瓷，生物材料，药品和有机组织领域。

全新 M6 — — 飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）先进科技

M6 是 IONTOF 在 TOFSIMS 5 基础上开发的新一代高端飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）仪器，对一次离子源（LMIG）和质量分析器（TOF Analyser）进行了突破性的改进。

此外，在硬件方面还增加了 MS/MS 功能选项，重新设计了加热和冷却系统；在软件方面新增了多元统计分析（MVSA）软件包。其设计保证了 SIMS 应用在所有领域的卓越性能。

新的突破性离子束和质量分析器技术使 M6 成为二次离子质谱（SIMS）仪器中的耀眼光芒、工业和学术研究的理想工具。

全新 M6 具有以下突出优势：

1      新型 Nanoprobe 50 具有高横向分辨率 (< 50 nm)

2      质量分辨率 > 30,000

3      独特的延迟提取模式可同时实现高传输，高横向质量

4      广域的动态范围和检测限

5      用于阐明分子结构具有 CID 片段功能的 TOF MS/MS

6      先进智能的 SurfaceLab 7 软件，包括完全集成的多元统计分析 (MVSA) 软件包

7      新型灵活按钮式闭环样品加热和冷却系统，可长期无人值守运行

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