SPECS NAP-XPS近常压X射线光电子能谱仪参数指标

近常压X射线光电子能谱仪（NAP-XPS）是一种反应条件下的原位表面分析技术，可以在较高温度下、一定压力（0.3 mbar左右）气体环境中对材料的表面进行研究。它的应用使得在近常压下对固-气界面进行化学成分、氧化态以及电子结构的实时原位分析成为可能。其应用范围非常广，包括超导材料、拓扑绝缘体、半导体、催化材料等等。主要有以下特点：

1. 单色化XPS源，大大提高了能量分辨率；

2. UHV-近常压工作气氛可调；

3. 样品原位加热/通气/加光；

4. 设备与配有电化学工作站的手套箱互联，电化学反应样品可进行准原位测试；

5. 设备与Nano-X超高真空管道互联，可以不暴露大气进行其他表征，例如SEM形貌表征或TOF-SIMS深度剖析。

型号：SPECS NAP-XPS 

关键性能参数：

工作压力：UHV-25 mbar

能量分辨率：Ag 3d5/2, <0.5 eV FWHM at 20 kcps @UHV

样品台温度：220 K-1500 K