原子层沉积系统PICOPLASMA™技术的关键优势:
· 对衬底无等离子损伤
· 导电材料不会产生短路现象
· 无前驱源背扩散→等离子发生器无薄膜形成
· 等离子体点火期间无压力振荡→无颗粒形成
· 等离子体源与衬底之间无闸门阀→无颗粒形成
· 等离子体源材料无刻蚀→金属和氧化物薄膜低杂质
· 简单和快速服务并通过维护舱口改变腔室
· 无硬件修改使热ALD和等离子ALD工艺在同一沉积腔室中进行成为可能