SUPRA™超高分辨率场发射扫描电子显微镜技术特点

【技术特点】-- SUPRA™超高分辨率场发射扫描电子显微镜

主要特点：

 在整个电压范围内的超高分辨率，
 电压范围zei低至0.1 kV，所需调整极少,
 高束流，高稳定性，
 高效In-lens二次电子检测器，可实现高分辨率的表面成像，
 增强型VPSE探测器，可实现不导电试样的成像
 基于Windows® XP的SmartSEM™控制软件，操作简便

SUPRA™ 40/40VP
是SUPRA™系列中使用zei多的产品，具有大型样品台，VP工作模式，尤其适合于失效分析、过程控制和低温应用。

SUPRA™ 55/55VP
SUPRA™系列中多功能的产品，具有超高分辨率与全面分析应用的能力。

WDS系列
适用于SUPRA™ 55、SUPRA™ 55 VP及ULTRA55

SUPRA™ 60/60VP
拥有大样品室以及6英寸超优中心（super eucentric）样品台和8英寸样品预抽室，适合对硅片进行全面的分析，也非常适合需要检查大型样品的用户。

【技术特点对用户带来的好处】-- SUPRA™超高分辨率场发射扫描电子显微镜

【典型应用举例】-- SUPRA™超高分辨率场发射扫描电子显微镜