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易使用
智能识别系统可自动探测安装了何种类型的插入头，以便立即运行相应的镀膜方案。可存储多个用户自定义的镀膜方案 – 这对于需更改镀膜参数实现不同应用的多用户实验室非常理想。多种可选样品台适用于各种尺寸和类型的样品；所有样品台都带有快速、易更换及落入式设计的特点。
快速简便
快速、易更换的镀膜插入头。采用全自动触摸屏控制,可快速输入数据。与镀膜处理方法及镀膜材料相适配的镀膜参数方案可通过触摸按键实现预设并储存。自动进气控制功能确保了镀膜期间最佳的真空状态，可提供良好的一致性。
可重复性镀膜
可预编程的镀膜参数及方案能确保一致且可重复的结果。需要沉积厚膜时，本系统提供长达60分钟且无需破真空的溅射时间。可选的膜厚监控附件用于可重复膜厚控制：到达所设定膜厚，溅射镀膜即停；或采用可控脉冲模式到达所设定碳膜厚度，碳丝热蒸发即停。
Q150R ES PLUS标配可互换的溅射插入头及碳丝蒸镀插入头，集两种功能于一体。溅射插入头装有磁控系统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品。这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；碳丝蒸镀插入头采用功能强大、无纹波直流电源，蒸发电流可控，确保可重复的碳蒸镀膜。自动蒸发源挡板可在镀膜循环的除气期间保护样品。快速、易更换的3.05mm直径碳棒蒸发插入头作为可选，用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程。
可选的快速易更换的辉光放电插入头可用于样品表面改性（如疏水改变为亲水）
Q150R Plus系列镀膜仪有三款型号：
适用金属靶材镀膜（Q150R S Plus）
适用镀碳（Q150R E Plus）
集成离子溅射和镀碳两种镀膜方式（Q150R ES Plus）
Q150R Plus旋转泵镀膜仪
Q150R Plus旋转泵镀膜仪具有三种型号，适用于钨灯丝/六硼化镧SEM和台式SEM。
贵金属靶材溅射镀膜，两种模式可选
全新电容式触摸屏，高度灵敏
16GB的闪存，可储存超过1000条镀膜方案
Q150R Plus 适用于钨/LaB6 SEM 和台式 SEM。
典型用途：
使用Q150R S & ES Plus对贵金属进行溅射镀膜：
推荐放大倍率：
• 使用 Au、Au/Pd 时高达 x 50k
• 使用 Pt 时高达 x 100k（可选）
使用Q150R E & ES Plus进行元素分析的碳帘线涂层。
能够实现 2 x 10-2 mbar 的真空度
新的触摸和滑动电容屏
用于升级和下载日志文件的 USB 端口
可以在一台计算机上设置多用户配置文件
新软件根据最近的使用情况对每个用户的食谱进行排序
16GB内存可存储1000多种配方
新型多色LED可视状态指示灯
可互换的载物台选项和插入式头
Q150R S Plus – 用于非氧化性金属的自动溅射镀膜机。可用的溅射靶材包括金、金/钯和铂。
Q150R E Plus – 用于EDS 和 WDS 等 SEM 应用的 n 自动碳帘线涂布机。
Q150R ES Plus – 一种能够进行溅射和碳镀膜的组合系统。沉积头可在几秒钟内更换。
低倍率和中倍率
当镀覆 1nm 或更少的 Au、Au/Pd、Pt 时，SE 信号增强（提高 SE 产量）
台式SEM镀膜
元素分析
用于SEM的铜金属化层
这些产品仅供研究使用。
电容式触摸屏更灵敏，使用方便
用户界面软件已经过广泛的修订，使用现代智能手机风格的界面
全面的上下文相关帮助屏幕
USB接口允许轻松进行软件更新和将配方文件备份/复制到USB记忆棒
过程日志文件可以通过 USB 端口以 .csv 格式导出，以便在 Excel 或类似格式中进行分析。日志文件包括日期、时间和过程参数。
16GB闪存可存储1000多种配方
双核 ARM 处理器，可实现快速、灵敏的显示
允许多个用户输入和存储涂层配方，并具有根据最近使用情况对每个用户的配方进行排序的新功能。
智能系统逻辑可自动检测哪个刀片就位，并显示该过程的相应操作设置和控制。
系统提示用户确认目标材料，然后自动为该材料选择适当的参数。
直观的软件使最缺乏经验或偶尔操作的操作员能够快速输入和存储自己的过程数据。为方便起见，已经存储了许多典型的溅射和碳涂层轮廓，但也允许用户创建自己的轮廓。
软件检测到在设定的时间段内未能达到真空，并在真空泄漏的情况下关闭过程，从而确保泵免受过热保护。
碳蒸发过程可以使用可选的薄膜厚度监测器终止，该监测器包含石英晶体监测器。该配方确保碳在短受控脉冲中蒸发，这有两个效果;保护样品免受加热，并确保膜厚监测仪的准确性。脉冲还显著减少了与传统碳“闪蒸”相关的碎片（包括大碳碎片）的数量。脉冲和斜坡碳棒配方作为标准配置提供。
溅射镀膜是一种广泛用于各种应用的技术;可以制造出电压高、真空度差且没有自动化的等离子体和溅射金属。然而，这不适用于电子显微镜应用，因为它会加热样品，并在等离子体与样品相互作用时导致损坏。Q 系列使用针对旋转泵压力进行优化的低温增强等离子体磁控管，并结合低电流和沉积控制，确保您的样品得到保护并均匀涂覆。
Q150R S Plus 和 Q150R ES Plus 采用易于更换的直径为 57 mm 的圆盘式靶材，设计用于溅射非氧化性（贵金属）金属，是 W-SEM 应用的理想选择。Q150R S Plus 和 Q150R ES Plus 标配金 （Au） 溅射靶材。
其他目标选项包括;Au/Pd、Pt/Pd、Pd 和 Cu. 铂 （Pt） 也可以使用可选的 Pt 涂层真空软管组件进行溅射。
这允许用户将系统配置为溅射镀膜机、蒸发器或辉光放电系统——所有这些都以一种节省空间的形式进行。碳帘线蒸发插件可作为选件提供。更换时自动检测头部类型。
可拆卸的玻璃室和易于接近的底座和顶板使清洁过程变得容易。
如有必要，用户可以快速更换腔室，以避免敏感样品的交叉污染。
高腔室选项可用于碳蒸发，以避免样品加热，提高溅射的均匀性并容纳较高的样品。
Q150R Plus 的试样台可满足大多数要求。所有产品均采用易于更换的插入式设计（无螺钉），高度可调（旋转行星载物台除外）。一些例子：
旋转平台（标配）：直径 50 mm 的平台可容纳 <> 个标准短截面。高度可以预设。
旋转倾斜载物台，可提高涂层均匀性：直径 50 mm。倾斜度和高度可以预先设置。
可变角度旋转行星台，适用于轮廓较大的样品
大型扁平旋转平台，带偏置齿轮箱，适用于 4“/100 mm 晶圆
用于玻璃显微镜载玻片的旋转载物台
可根据要求提供其他选项。
Q150R Plus 符合关键的行业 CE 标准
所有电子元件均由盖板保护
内爆防护罩可防止用户在腔室故障时受伤
真空联锁装置可消除沉积源的电源，以防止用户在腔室打开时暴露于高压
当源头盖打开时，电气联锁装置会断开电源
过热保护关闭电源
