纳米压印系统参数

热塑压印模块

• 温度范围0～250℃

• 加热速度>300℃/分钟

• 制冷速度>150℃/分钟

• 压力范围0 ～ 3.8 MPa（550 psi）

紫外固化模块

• 200W窄带紫外光源

• 365纳米或395纳米波长可选

• 全自动化控制 对准模块

• X, Y, Z, Theta平台

• 分场光学和CCD相机

基板装载

• 标配纳米压印系统可装载4″基板

• 6″和8″基板可选

• 各种尺寸及不规则形状模板及基板均可压印

• 独特zl保护ACP技术可最大限度保护基板和模板，特别对于象磷化铟（InP）等极易碎模板和基板给予最大限度保护。

光刻

• 标配5”模板，标配4”直径基板

• 其他尺寸可以提供

• 500瓦紫外水银灯光源

应用领域：

纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等