2“ (50mm) OD x 1.7“ ID x 71“ L

3.14“ (80mm) OD x 2.83“ ID x 71'' L

5“ (130mm) OD x 4.8“ ID x 84'' L

产品优点

•  与传统的CVD相比，只需较低的制备温度

• .滑轨式可快速加热和快速冷却   

•  两个加热区，温度梯度最大可达 200oC 

•  最高工作温度1100°C   

•  提供一个宽范围的材料制备 ，如碳和 ZnO 纳米管或纳米线以及单层石墨烯。

• 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命

等离子发射源

• 输出功率:          5 -500W    ± 1% . 

• 射频频率:          13.56 MHz    ±0.005% .

• 反射功率:          最大 200W 

• 匹配:                自动

• 射频接口:       50 Ω, N-type

• 噪音:                    <50 dB. 

• 冷却:                  风冷. 

• 电源:                AC   208-240V, 50/60Hz