【技术特点】-- CVD管式炉(含预热腔体)-- OTF-1200X-4-NW
OTF-1200X-4-NW-UL是一款用于CVD实验的小型管式炉,常用生长纳米线和各种薄膜。设备左端设计有一反应前驱体预热区,并在预热炉体上安装有各种接口。可导入气体、液体和放入固体反应物。主反应炉体中有一3英寸的样品台,用于盛放基片,样品台与右端滑轨法兰连接,以便于实验操作。
技术参数
工作温度 | 主反应炉体: 最高工作温度:1100℃(<2hrs) 连续工作温度:1000℃ 最大加热速率:20℃/min
预热区: 连续工作温度: RT~600℃ 最大加热速率: 20℃/mi
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温控系统 | 主反应炉体和预热炉分别由两个独立的温控系统控制 采用PID方式来调节温度,可设置30段升降温程序 采用K型热电偶 控温精度:+/- 1℃ 可选购控温软件,可通过电脑来设置和显示温度程序
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密封法兰 | 主反应炉体 右端法兰: 左端法兰(主反应炉体和预热炉体之间) |
重量 | 110kg |
仪器尺寸 | |
【技术特点对用户带来的好处】-- CVD管式炉(含预热腔体)-- OTF-1200X-4-NW
【典型应用举例】-- CVD管式炉(含预热腔体)-- OTF-1200X-4-NW