NRE-4000 (A) 全自动...

NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀

参考成交价格: 10~50万元[人民币]
技术特点

【技术特点】-- NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀


  • 铝质腔体或不锈钢腔体

  • 不锈钢立柜

  • 水冷及加热的RF样品台

  • 大自偏压

  • 淋浴头气流分布

  • 涡轮分子泵

  • 无绕曲气体管路

  • 自动下游压力控制

  • 终点监测

  • 气动升降顶盖

  • 自动上下载片

  • 预真空锁

  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

  • 菜单驱动,4级密码访问保护

  • 完全的安全联锁

  • 可选ICP离子源以及低温冷却样品台,用于深硅刻蚀



【技术特点对用户带来的好处】-- NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀


【典型应用举例】-- NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀


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