【技术特点】-- GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。

主要特点

1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。

2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得最佳镀膜效

果。

3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。

4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。

5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。

6、溅射头采用Peltier制冷技术，可得到高性能、精细颗粒的涂层。

7、可用水冷溅射头、水冷载物台。

产品规格

尺寸：360mm×300mm×380mm

标准配件

1、金靶材

2、进气针阀

3、保险丝

可选配件

金、铟、银、铂等各种靶材

【技术特点对用户带来的好处】-- GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪

【典型应用举例】-- GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪