产品简介:SE-Mapping光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。SE-Mapping光谱椭偏仪广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
产品型号 | SE-Mapping光谱椭偏仪 | |
主要特点 | 1、全基片椭偏绘制化测量解决方案 2、支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量 3、配置Mapping模块,全基片自定义多点定位测量能力 4、丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力 5、采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm) 6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集 7、具备全基片自定义多点自动定位测量能力,提供全面膜厚检测分析报告 8、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料 | |
可选配件 | 3 | 真空泵 |
4 | 透射吸附组件 |