快速热化学气相沉积系统(RTCVD)技术特点

【技术特点】-- 快速热化学气相沉积系统(RTCVD)

快速热化学气相沉积系统 (RTCVD)

生产商：韩国Ecopia

RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和制备。

【技术特点对用户带来的好处】-- 快速热化学气相沉积系统(RTCVD)

【典型应用举例】-- 快速热化学气相沉积系统(RTCVD)