RTP-1200小型快速退火炉(RTA)技术特点

【技术特点】-- RTP-1200小型快速退火炉(RTA)

RTP-1200小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为韩国进口的快速退火炉。

该仪器：尺寸小巧，使用风冷、无须水冷，电流要求不高(3安培)，性价比高，使用方便，非常适合科研院所的科研使用。

仪器特点：

- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；

- 温控精度高；

- 适合高校或研究所科研使用；

- 无须额外的冷却系统；

- 紧凑的台式设计；

- 仪器操作方便，样片装取容易；

- 价格合理，高性价比；

应用领域：

- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

- 硅化 (Silicidation);

- 扩散 (Diffusion);

- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

- 离子注入后退火 (Implant Annealing);

- 电极合金化 (Contact Alloying);

- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);

- 合金熔点分析；

- 薄膜沉积；

等等…

【技术特点对用户带来的好处】-- RTP-1200小型快速退火炉(RTA)

【典型应用举例】-- RTP-1200小型快速退火炉(RTA)