SAL1000G ALD原子层沉...
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性能



真空度

到达压力

≤5Pa

成膜性能

膜厚分布

≤± 3% (φ 100mm)

设备构成



设备型号

SAL1000G


成膜方向

下表面


基底尺寸

φ 100mm or 4 inch Max


基底加热器温度

350℃ Max


前驱体数

2


前驱体温度

150℃ Max


净化气体

N2 (气体控制:带流量计针型阀)


手套箱

有机玻璃,真空-氮气吹扫式


真空泵

162L/min 旋片式真空机械泵


重量

本体:50kg,手套箱:35kg,真空泵:27kg


可选配置

基片自动旋转支架

粉体沉积配件

废气处理设备

前驱体加热器- 200℃


安装要求



电源要求

电源

3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz

接地

<100Ω


线缆

5m 附赠


N2吹扫气体

供给压力

0.1 ~.0.2Mpa

接口

1/4 Swagelok


压缩空气

供给压力

0.6 ~0.8Mpa

接口

φ6mm 接口


真空泵排气口

排气口

KF-25法兰

设备排气口

排气口

φ38mm x   L28软管适配器

安装尺寸

W1000 x D700 x H900


 

 


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