SAL1000G ALD原子层沉积系统技术特点

【技术特点】-- SAL1000G ALD原子层沉积系统

· 真空可移动的手套箱可以处理易氧化的样品。

· 前驱体标配两组阀门和气瓶。

· 可选择将前驱体加热至200摄氏度。

· 可选择基片自动旋转支架。

· 可选择粉体沉积配件。

· 可选择经济实惠的废气处理设备。

· 触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程，并检查每个驱动系统的运动。

· 可进行自动沉积，并在沉积完成后自动完成N₂排放。

· 手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。

【技术特点对用户带来的好处】-- SAL1000G ALD原子层沉积系统

【典型应用举例】-- SAL1000G ALD原子层沉积系统