一、分子束外延 (Molecular Beam Epitaxy，MBE)简介
在超高真空环境下， 使具有一定热能的一种或多种分子 (原子) 束流喷射到晶体衬底 ，在衬底表面发生反应的过程，由于分子在 "飞行"过程中几乎与环境气体无碰撞 ，以分 子束的形式射向衬底 ，进行外延生长， 故此而得名。
属性: 一种真空蒸镀方法
始创: 20世纪70年代初期，美国Bell实验室
应用: 外延生长原子级精确控制的超薄多层二维结构材料和器件(超品格、量子阱、调制掺杂异质结、量子阱激光器 、高电子迁移率晶体管等) ；结合其他工艺，还可制备一维和 零维的纳米材料(量子线、量子点等）。
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