我们的日常生活中已经离不开手机。
手机由CPU、内存、屏幕、摄像头、电池、传感器等很多部件组成，其中CPU是整台手机的控制中枢系统，是手机的“芯”。不管是华为的麒麟系列处理器，还是苹果的A系列处理器，这些手机芯片，都是建立在大规模集成电路基础上的。
随着手机不断发展，要求运算速度更快、发热更小、功耗更低，手机芯片的制程尺寸就要求越来越小，现在已经进入到5nm甚至更小尺寸的时代。越小尺寸的芯片越需要使用纯度更高的材料，包括水。
手机芯片制造过程中，会大量使用到水，用于晶片冲洗和化学浴中化合物的稀释。
和我们日常饮用水的要求不同，手机芯片需要使用超纯水。
超纯水，到底要求有多高呢？
根据SEMI F63-0918《半导体加工中超纯水使用指南》，除B（50ppt）和Ni（3ppt）外，26种金属污染物的目标值应小于1ppt。比GB5749-2006《生活饮用水卫生标准》中，规定的铅限量值0.01mg/L，低了1万倍。如果按照一个标准游泳池按照长50米，宽25米，深2米计算，那么相当于400个游泳池里才允许有1克金属污染物。
这么低含量的金属杂质如何才能准确的检测呢？
要在短时间内测定出此类具有如此低含量的元素，唯一可选的技术即为电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）。
NexION 5000是业界首款化学高分辨多重四极杆ICP-MS，由四组四极杆组成，其性能超越了高分辨ICP-MS和传统的三重四极杆技术，无论是在背景等效浓度还是在检出限，NexION 5000都有数量级上的改善。
对于超纯水的所有分析均采用NexION 5000 ICP-MS在标准配置下进行，仪器参数如下表：
对于BEC和DL的测定，使用10、20、40和60ppt标准建立校准曲线。所有曲线的线性回归值（r2）均大于0.999，这表明分析的线性度好，能够在低浓度下准确测定，并且能够有效消除干扰。下图分别示出了“标准MS/MS”模式、“反应（NH3）MS/MS”模式和“反应（O2）质量转移”模式下的四种典型校准曲线。
下表为超纯水中26种基本元素和非基本元素的DL和BEC（均以ppt表示）。
NexION 5000化学高分辨多重四极杆ICP-MS，可以轻松达到半导体行业用超纯水中无机元素的SEMI或ASTM要求，具有卓越的消除质谱干扰和痕量元素检测能力。
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