会议邀请 | 第九届中国原子层沉积会议

飞纳电镜

2021.7.23

复纳科学仪器（上海）有限公司

原子层沉积（ALD）作为一种面向纳米和亚纳米薄膜以及纳米颗粒的制备技术，现已被广泛应用于微电子、光电子、催化、能源、光学涂层、抗腐蚀层、生物医用材料等多个领域。

为推动 ALD 技术的交流与发展，第九届中国原子层沉积会议将于 7 月 27 日- 30 日于中国长春召开。届时，复纳科学仪器（上海）有限公司将携旗下的先进 ALD 解决方案品牌 - Forge Nano 出席会议，欢迎各位同仁与老师到场交流。

会议时间：2021 年 7 月 27 日 - 30 日

会议地点：吉林省长春市香格里拉酒店

产品介绍

Forge Nano 是全球唯一可提供从原子层沉积粉末包覆（PALD）研发到工业规模化生产“端到端”服务的美国公司，致力于为全球各大电池材料生产商提供最先进的粉末包覆技术设备服务。自成立以来，包括：大众汽车，LG 化学，三井金属，SBI 集团等先后投资，已成为该领域的独角兽企业。在 2020 年，Forge Nano 收购 ALD Nanosolutions，Sundew 进行合并重组，成为具备提供粉末 / 平面样品 ALD 完整解决方案的 ALD 供应商。

流化床 PALD 解决方案

Forge Nano 经过多年的研发，基于流化床分散技术，可实现从克级到千吨级的粉末 ALD 包覆，涵盖实验室研发以及工业量产解决方案。研究者可以根据粉末材料的特性和数量选择定制的 P 系列实验室研发系统，进行从克级到公斤级的粉末包覆。当该技术工艺成熟后，Forge Nano 可协助进行工艺的放大与量产。与研发级方案不同，工业生产方案 Morpheus 系统采用半连续作业的空间 ALD 技术，已经被成功应用于锂电池电极材料以及催化剂的包覆改性，并可实现单日吨级产量。

流化床粉末包覆解决方案

旋转床 PALD 解决方案

旋转床是一种更为普遍的粉末分散方式，在离心力与重力的作用下，粉末会在腔室中不断旋转，从而保证其均匀的分散。Forge Nano 可提供用于研发的 Pandora 多功能 ALD 系统，可实现粉末与平面样品的轻松切换，更好的满足科学研究灵活，批量小的需求。区别于连续化作业，旋转床的工业化方案可以实现单批次更高的粉末处理量，对于粉末的兼容性也更高。

旋转床粉末包覆解决方案

平面超快 ALD 方案（SMFD^TM）

对于微电子器件，高精度的薄膜沉积至关重要，ALD 因为薄膜可控和保形的特性从而被广泛应用。但受制于反应机制，ALD 的沉积效率较低，因此仅用于较薄的薄膜沉积工艺。Forge Nano 的 SMFD^TM 方案基于专利技术，可实现常见薄膜最高 12-30nm/min 的沉积速率以及 80-90% 的前驱体利用效率。通过使用流量控制，将前驱体的反应时间缩短，增大滞留时间，从而实现最大的利用效率，节约反应时间。