!欢迎来聚! JEOL 参展SEMICON China 2023

上海新国际博览中心

E3馆 E3232

2023年6月29-7月1日

了解JEOL最新的

TEM/SEM/FIB/CP/NMR 纳米分析技术 

SEMICON China已成为中国首要的半导体行业盛事之一，2023年展会将于6月29-7月1日在上海新国际博览中心举行。

JEOL展位号:E3 232。在本次展会上,将以图文展示纳米分析技术产品。

特点:

1)低电压下出色的成像能力(1nm@1kV)

2)100nA束流,快速制备TEM薄片

3)130mmXY行程及-40~93°双向倾转

4)Check&Go^TM,无需切换硬件即可在STEM和SEM模式切换

5)TEM-Linkage^TM,加工后直接转入JEOL双倾样品杆,不会有样品掉落风险

特点:

1)高分辨率冷场电子枪可选,Flash&Go^TM快速Flash功能，大大提高冷场枪的易用性

2)Specporter^TM自动进样设计,对初学者友好,无插杆掉真空风险

3)Pico-stage^TM高重复精度样品台

4)Dual EDS 超高计数率双能谱配置

5)1900万高像素 一体化Sightsky^TM相机

特点:

1)JEOL畅销的200kV加速电压透射电镜旗舰机型

2)高分辨率冷场电子枪可选,Flash&Go^TM快速Flash功能，大大提高冷场枪的易用性

3)COSMO^TM:不需要标样的自动球差调整

4)Dual EDS超高计数率双能谱配置

5)GIF/CEFID 能量损失谱可选

6)自动量测机型:JEM-ACE200F可选

特点:

1)光电过渡Zeromag^TM，视野范围120mm

2)UID/UED/SED探测器:捕捉高分辨二次电子/电位衬度图像

3)最大样品尺寸:200mm(D)

4)Airlock&DrawOut两种换样方式可选

5)500nA分析束流可选

6)Gather-X^TM无窗型一体化能谱可选，轻松识别常见的重叠峰

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