ISO 17109:2022
表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth p
- 标准号
- ISO 17109:2022
- 发布
- 2022年
- 发布单位
- 国际标准化组织
- 当前最新
- ISO 17109:2022
- 本文件规定了一种在设定溅射条件下使用单层或多层参考样品（其材料层与需要深度校准的材料相同的层）测量其溅射速率来校准材料溅射深度的方法。 当使用 AES、XPS 和 SIMS 进行溅射深度分析时，对于 20 nm 至 200 nm 厚的层，该方法的典型精度为 5% 至 10%。 溅射速率由参考样品中相关界面之间的层厚度和溅射时间确定，并且与溅射时间一起使用以给...