ISO 17109:2022
表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth p
ISO 17109:2022 发布历史
ISO 17109:2022由国际标准化组织 IX-ISO 发布于 2022-03-01。
ISO 17109:2022在国际标准分类中归属于: 71.040.40 化学分析。
ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法的最新版本是哪一版？
最新版本是 ISO 17109:2022 。
ISO 17109:2022的历代版本如下：
- 2022年 ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
- 2015年 ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
本文件规定了一种在设定溅射条件下使用单层或多层参考样品（其材料层与需要深度校准的材料相同的层）测量其溅射速率来校准材料溅射深度的方法。 当使用 AES、XPS 和 SIMS 进行溅射深度分析时，对于 20 nm 至 200 nm 厚的层，该方法的典型精度为 5% 至 10%。 溅射速率由参考样品中相关界面之间的层厚度和溅射时间确定，并且与溅射时间一起使用以给出待测量样品的厚度。 确定的离子溅射速率可用于预测各种其他材料的离子溅射速率，以便可以通过溅射产率和原子密度的表格值来估计这些材料的深度尺度和溅射时间。
采用 ISO 17109 的发行版本有：
- BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 17109:2022 表面化学分析 深度剖析 使用单层和多层薄膜的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率的测定方法...
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